Reprospher

Reprospher media are based on a 100 A ultrapure silica and are fully scalable from UPLC (1.9 µm particles) to preparative and process scale applications. Among the offered phases there are some unique selectivities such as a wide range of aromatic specialty phases, phases with polar selectivities and unique phases for achiral SFC.

Specifications

Particle Sizes 1.7 µm, 1.8 µm, 2 µm, 2.5 µm, 3 µm, 3.5 µm, 4 µm, 5 µm, 7 µm, 10 µm, 30 µm, 50 µm
Phases/Modifications C30 / C18, ODS / C18, Phenyl / C18+carboxylic acids / C12, Dodecyl / C8, MOS / C8, TN / Phenyl / Phenyl-Hexyl / Diphenyl, Phe-Si-Phe / Biphenyl, Si-Phe-Phe / Pentafluorphenyl, PFP / C6, Hexyl / C4, Butyl / CN, Cyano, Nitrile / Diol / 2-Ethylpyridin / 4-Ethylpyridin / NH2, Amino / Diamin / Amino / Polyethlenimin, PEI / Silica / / Arginin / SO3H, Sulfonic Acid / COOH, Carboxylic Acid / Propyl-SAX / Polyethylenimin, PEI
Pore Size Surface Area
100 Å 350 m²/g
200 Å 160 m²/g
300 Å 100 m²/g

Products

Name Particle Sizes Carbon Load Pore Size
Reprospher 100 C30-DE 1.8 – 10 µm 20 % 100 Å
Reprospher 100 C30 10 µm 19 % 100 Å
Reprospher 100 C18 1.7 – 10 µm 16 % 100 Å
Reprospher 100 C18-DE 1.7 – 10 µm 16 % 100 Å
Reprospher 100 C18-Aqua 1.7 – 30 µm 12 % 100 Å
Reprospher 100 C18-Aqua-DE 3 µm 12 % 100 Å
Reprospher 100 C18-NE 1.7 – 5 µm 15 % 100 Å
Reprospher 100 C18-TDE 3 – 10 µm 20 % 100 Å
Reprospher 100 C18-TN 5 µm 17 % 100 Å
Reprospher 100 C18-Phenyl 5 – 10 µm 100 Å
Reprospher 100 C18/WCX 5 – 10 µm 100 Å
Reprospher 100 C12 4 – 5 µm 8 % 100 Å
Reprospher 100 C8-Aqua 1.8 – 10 µm 8 % 100 Å
Reprospher 100 C8-Aqua-DE 3 – 5 µm 8 % 100 Å
Reprospher 100 C8 1.8 – 10 µm 10 % 100 Å
Reprospher 100 C8-DE 1.7 – 10 µm 10 % 100 Å
Reprospher 100 C8-NE 5 µm 9 % 100 Å
Reprospher 100 C8-TN 5 µm 100 Å
Reprospher 100 Phenyl 1.8 – 10 µm 9 % 100 Å
Reprospher 100 Phenyl-NE 5 µm 12 % 100 Å
Reprospher 100 Phenyl-Hexyl 1.8 – 5 µm 13 % 100 Å
Reprospher 100 Phenyl-Hexyl-e 3 – 10 µm 13 % 100 Å
Reprospher 100 Diphenyl 5 µm 100 Å
Reprospher 100 Biphenyl 5 µm 100 Å
Reprospher 100 PFP 5 µm 100 Å
Reprospher 100 C6-TDE 5 µm 8 % 100 Å
Reprospher 100 C4-Aqua 5 – 10 µm 6 % 100 Å
Reprospher 100 C4 1.8 – 5 µm 6 % 100 Å
Reprospher 100 C4-DE 5 µm 7 % 100 Å
Reprospher 100 CN 1.8 – 10 µm 7 % 100 Å
Reprospher 100 CN-DE 1.7 – 1.8 µm 7 % 100 Å
Reprospher 100 Diol-DE 5 µm 7 % 100 Å
Reprospher 100 Diol 3 – 5 µm 7 % 100 Å
Reprospher 100 2-EP 5 – 10 µm 100 Å
Reprospher 100 4-EP 5 – 10 µm 100 Å
Reprospher 100 NH2-DE 1.8 – 5 µm 4 % 100 Å
Reprospher 100 NH2 3 – 5 µm 4 % 100 Å
Reprospher 100 DNH 3 – 5 µm 5 % 100 Å
Reprospher Carbohydrate 5 µm 100 Å
Reprospher 100 PEI 3 – 50 µm 100 Å
Reprospher 100 Si 1.7 – 10 µm 100 Å
Reprospher HILIC-P 3 – 10 µm 100 Å
Reprospher HILIC-A 3 – 10 µm 100 Å
Reprospher HILIC-ARG 3 – 5 µm 100 Å
Reprospher Acidosil-S 5 – 10 µm 100 Å
Reprospher Acidosil-C 5 – 10 µm 100 Å
Reprospher 200 Si 5 µm 200 Å
Reprospher 200 C30-DE 5 µm 10 % 200 Å
Reprospher 200 C18-TDE 5 µm 12 % 200 Å
Reprospher 200 C18-TN 3 – 10 µm 11 % 200 Å
Reprospher 200 C18-DE 1.8 – 3 µm 10 % 200 Å
Reprospher 200 C18 2.5 – 5 µm 9 % 200 Å
Reprospher 200 C18-Aqua 3 – 5 µm 5 % 200 Å
Reprospher 200 C8 3 – 5 µm 5 % 200 Å
Reprospher 200 Phenyl 5 µm 200 Å
Reprospher 200 SAX 3 – 50 µm 200 Å
Reprospher 300 C4 1.8 – 5 µm 2.5 % 300 Å
Reprospher 300 C4-DE 2.5 – 5 µm 3 % 300 Å
Reprospher 300 C4-Aqua 1.8 – 5 µm 3 % 300 Å
Reprospher 300 C4-T 5 µm 4 % 300 Å
Reprospher 300 C8 1.8 – 5 µm 4 % 300 Å
Reprospher 300 C8-T 5 µm 6 % 300 Å
Reprospher 300 C8-TN 5 µm 5 % 300 Å
Reprospher 300 C18 1.8 – 10 µm 7 % 300 Å
Reprospher 300 C18-DE 2.5 – 5 µm 7 % 300 Å
Reprospher 300 C18-Aqua 3 – 5 µm 4 % 300 Å
Reprospher 300 C18-TN 5 – 30 µm 10 % 300 Å
Reprospher 300 C18-T 5 µm 11 % 300 Å
Reprospher 300 Phenyl-DE 3 µm 5 % 300 Å
Reprospher 300 Phenyl 10 µm 4 % 300 Å
Reprospher 300 PEI 3 – 10 µm 300 Å
ReproSil-DIBS + ADS Stability